超純金屬的制備有化學(xué)提純法如精餾(特別是金屬氯化物的精餾及氫還原)、升華、溶劑萃取等和物理提純法如區(qū)熔提純等(見硅、鍺、鋁、銦)。其中以區(qū)熔提純或區(qū)熔提純與其他方法相 結(jié)合有效。
由于容器與藥劑中雜質(zhì)的污染,使得到的金屬純度受到一定的限制,只有用化學(xué)方法將金屬提純到一定純度之后,酸霧吸收塔廠,再用物理方法如區(qū)熔提純,才能將金屬純度提到一個(gè)新的高度。可以用半導(dǎo)體材料鍺及超純金屬鋁為例說明典型的超純金屬制備及檢測(cè)的原理(見區(qū)域熔煉)。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,酸霧吸收塔價(jià)格,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬,合金,湖南酸霧吸收塔,陶瓷化合物等。
由表面層和基層組成的半導(dǎo)電輥;該表面層具有較高的電阻值,由橡膠組合物制成;基層具有較低的電阻值,酸霧吸收塔廠家,由導(dǎo)電橡膠組合物組成。該半導(dǎo)電輥的目的在于通過良好地平衡表面層和基層的電阻值而獲得良好的靜電充電特性。有必要使這兩種層的厚度高度準(zhǔn)確。為使兩種層的厚度高度準(zhǔn)確,需要較麻煩的管理,并且生產(chǎn)橡膠輥的成本較高。
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