1:金屬鍍鈀,鍍鈀銅提鈀技術(shù):首先把鍍鈀銅等表面鍍鈀料放入容器中,再加入自配退鈀溶液,數(shù)秒中后表面鈀退凈,取出鍍鈀銅基體(此方法對(duì)基體無(wú)傷害,哪里有金銅靶材,再用自配化學(xué)試劑,鈀和溶液分離
2:合金含鈀,銅鈀合金提鈀技術(shù):把銅鈀合金放入容器中,加入自配化學(xué)品把銅鈀合金溶解成液體,再用自配化學(xué)試劑把鈀和溶液分離。
3:廢鈀碳催化劑提鈀,金銅靶材報(bào)價(jià),首先用物理原理把碳等有機(jī)物去除,剩下金屬鈀,再用化學(xué)試劑溶解金屬鈀,湖北金銅靶材,再進(jìn)行下一步鈀分離。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,金銅靶材廠家,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來(lái),濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線:在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加,新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求,需求數(shù)量也逐年增加。
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