用于電子照相成像裝置和噴墨成像裝置的導(dǎo)電輥是通過(guò)將導(dǎo)電性泡沫彈性體包覆于導(dǎo)電性金屬芯材的外周而制成的。所述導(dǎo)電性泡沫彈性體是通過(guò)將導(dǎo)電性材料分散在普通彈性體中以使該彈性體具有導(dǎo)電性,并使用空氣或者氮?dú)鈱?duì)彈性體進(jìn)行機(jī)械發(fā)泡、或者使用發(fā)泡劑進(jìn)行化學(xué)發(fā)泡而形成的。
導(dǎo)電輥,所述導(dǎo)電輥的電阻率幾乎不會(huì)隨著環(huán)境變化而改變。根據(jù)本發(fā)明的一方面,大連純金靶材,提供了一種導(dǎo)電輥,純金靶材誰(shuí)家好,該導(dǎo)電輥包括導(dǎo)電性芯材,以及包覆于所述導(dǎo)電性芯材的外周的泡沫彈性層。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝,所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較,銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率,能夠滿足!導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問(wèn)題:銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低.并且容易發(fā)生反應(yīng),純金靶材價(jià)格,導(dǎo)致在使用過(guò)程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問(wèn)題,需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點(diǎn)、高電阻率的金屬及其化合物,因此要求阻擋層厚度小于50nm,與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的.需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等.但是Ta、W都是難熔金屬.制作相對(duì)困難,如今正在研究鉬、鉻等的臺(tái)金作為替代材料。
任何金屬都不能達(dá)到純?!俺儭本哂邢鄬?duì)的含義,是指技術(shù)上達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)。
由于技術(shù)的發(fā)展,也常使 “超純”的標(biāo)準(zhǔn)升級(jí)。“超純”的相對(duì)名詞是指“雜質(zhì)”,廣義的雜質(zhì)是指化學(xué)雜質(zhì)(元素)及“物理雜質(zhì)”(晶體缺陷),純金靶材回收,后者是指位錯(cuò)及空位等,而化學(xué)雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。
但只當(dāng)金屬純度達(dá)到很高的標(biāo)準(zhǔn)時(shí)(如純度9以上的金屬),物理雜質(zhì)的概念才是有意義的,因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學(xué)雜質(zhì)的含量作為標(biāo)準(zhǔn),即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬(wàn)分之幾表示。
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