光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，CCD光譜儀價(jià)格，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。

光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。

直讀光譜儀有哪些種類？

直讀光譜儀可以有不同的劃分方法。

根據(jù)光柵所處的環(huán)境不同，可分為真空型和非真空型直讀光譜儀，其中非真空型直讀光譜儀又可分為空氣型直讀光譜儀（無(wú)法測(cè)定真空紫外波段的C、P、S、As等元素含量）和充惰性氣體型直讀光譜儀（可以測(cè)定真空紫外元素）；

根據(jù)儀器的結(jié)構(gòu)不同，又可分為多道直讀光譜儀和全譜直讀光譜儀，其中前者多采用光電倍增管作為檢測(cè)器，后者多采用陣列檢測(cè)器（如CCD）。

隨著CCD技術(shù)的不斷發(fā)展，直讀光譜儀開(kāi)始朝小型化、全譜型方向發(fā)展。小型化儀器功耗小，占用空間小且易于維護(hù)；全譜直讀光譜儀能夠獲得全波段范圍內(nèi)的光譜，滿足多基體分析要求，譜線選擇靈活，可以有效扣除光譜干擾，分析，而多道直讀光譜儀只能檢測(cè)有限數(shù)量的光譜，很難做到這一點(diǎn)。

由中國(guó)72家鑄造協(xié)會(huì)/學(xué)會(huì)聯(lián)手打造的第十六屆中國(guó)國(guó)際鑄造博覽會(huì)The

16th China International Foundry Expo (Metal China)于2018年5月16-19日在北京順義新國(guó)展博覽中心成功舉辦。展商和觀眾來(lái)自中國(guó)、德國(guó)、美國(guó)、巴西、俄羅斯、日本、印度、西班牙等80多個(gè)國(guó)際和地區(qū)，展商數(shù)量超過(guò)1300家，觀眾超10萬(wàn)人次。本次展會(huì)得到同行業(yè)、學(xué)者及技術(shù)人員的高度評(píng)價(jià)。

鋼研納克在本博覽會(huì)上集中展示了SparkCCD

6000型全譜火花直讀光譜儀、CSONH氣體分析儀、Plasma 3000型雙向觀測(cè)全譜電感耦合等離子體光譜儀、力學(xué)試驗(yàn)機(jī)等分析儀器，吸引了國(guó)內(nèi)外眾多參展人員，受到、學(xué)者的一致好評(píng)。