在濕法清洗工藝路線下,目前主流的清洗設(shè)備主要包括單片清洗設(shè)備、槽式清洗設(shè)備、組合式清洗設(shè)備和批式旋轉(zhuǎn)噴淋清洗設(shè)備等,池州半導(dǎo)體氧化設(shè)備,其中單片清洗設(shè)備市場份額占比高。濕法清洗工藝路線下主流的清洗設(shè)備存在程度的區(qū)分,主要體現(xiàn)在可清洗顆粒大小、金屬污染、腐蝕均一性以及干燥技術(shù)等標(biāo)準(zhǔn)。目前至純科技主要生產(chǎn)濕法清洗設(shè)備,提供槽式設(shè)備(槽數(shù)量按需配置)及單片機(jī)設(shè)備(8-12 反應(yīng)腔),均可以覆蓋 8-12 寸晶圓制造的濕法工藝設(shè)備。
一種半導(dǎo)體氧化設(shè)備,其配有:由室壁界定的可密封氧化室;設(shè)置于氧化室內(nèi),半導(dǎo)體氧化設(shè)備報價,并用來支撐半導(dǎo)體樣品的基座;用于向所述氧化室供應(yīng)對所述
半導(dǎo)體樣品的特定部分進(jìn)行氧化的水蒸汽的供應(yīng)部分;監(jiān)測窗,其設(shè)置于所述氧化室的室壁之一內(nèi),半導(dǎo)體設(shè)備,并且設(shè)置于能夠面對支撐于所述基座上的所述半導(dǎo)體樣品的位置處;監(jiān)測部分,其設(shè)置于所述氧化室之外,并且能夠經(jīng)由所述監(jiān)測窗面對支撐于所述基座上的半導(dǎo)體樣品;以及調(diào)整所述基座和所述監(jiān)測部分之間的距離的調(diào)整部分。
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