由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標(biāo)志著在第二代樣機上采用的自主設(shè)計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理。為高質(zhì)量、按期完成項目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅實的基礎(chǔ)。

Plasma 2000 技術(shù)特點

1.  優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標(biāo)定

10. 智能干擾矯正

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鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設(shè)計，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，icp光譜儀廠家，保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術(shù)，地降低自吸效應(yīng)和電離干擾，從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準(zhǔn)確的測量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，icp光譜儀廠家，快速定位，的位置重現(xiàn)。 實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

進樣系統(tǒng)

簡潔的炬管安裝設(shè)計，icp光譜儀廠家，自動定位炬管位置，的位置重現(xiàn)。

ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器，全譜段響應(yīng)，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態(tài)范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。

ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導(dǎo)體制冷，制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無須復(fù)雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，吉林icp光譜儀，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設(shè)置，直觀的測試結(jié)果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險 防紫外觀測窗