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校準(zhǔn)試塊

校準(zhǔn)試塊應(yīng)采用與被檢工件相同或相近的材料制作。除合同有關(guān)各方另有約定之外，應(yīng)在校準(zhǔn)試塊上用線切加工出 0.5mm10mm 和2.mm 深的人工刻。刻深度的公差應(yīng)為0.1mm。刻槽的推薦寬度應(yīng)≤0.2 mm。

可采用已知厚度的非導(dǎo)體彈性墊片來(lái)模擬涂層，也可直接在校準(zhǔn)試塊上噴涂實(shí)際涂層。推薦墊片厚度為0.5mm的整數(shù)倍

可采用已知厚度的非導(dǎo)體墊片來(lái)模擬覆蓋層，也可直接在校準(zhǔn)試塊上噴涂實(shí)際覆蓋層。

推薦墊片厚度為 0.5mm的整數(shù)倍。

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膠片處理和底片質(zhì)量檢測(cè)

膠片處理

膠片處理一般應(yīng)按膠片使用說(shuō)明書(shū)的規(guī)定進(jìn)行。可采用自動(dòng)沖洗或手工沖洗方式處理，推薦采用自動(dòng)沖洗方式處理。原則上應(yīng)采用膠片廠家生產(chǎn)或推薦的沖洗配方或藥劑，并按照 GB/T 19348.的規(guī)定，經(jīng)比較試驗(yàn)證明的條件下，也可以使用其他廠家的配方或藥劑。

手工沖洗和自動(dòng)沖洗膠片宜在曝光后 8h之內(nèi)完成，長(zhǎng)不得超過(guò)24。5.14.2底片質(zhì)量檢驗(yàn)

暗室處理后的底片硫酸鹽離子的濃度一般應(yīng)低于 .050g/m。底片上硫酸鹽離子的濃度測(cè)量可參考附錄 K的要求執(zhí)行，測(cè)量結(jié)果應(yīng)記錄。

檢驗(yàn)的頻率由檢測(cè)方確定，但在此期間暗室處置條件應(yīng)保持不變。如果檢驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，硫酸鹽離子濃度大于 0.050g/m，應(yīng)來(lái)取以下行動(dòng):

a)停止暗室處理，并采取糾正措施;

b重新核定影和沖序驗(yàn)證的符合性

c)重新處置所有含有缺陷的底片。

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壓力容器管道裂紋檢驗(yàn)常用無(wú)損檢測(cè)技術(shù)

超聲波檢測(cè)技術(shù)

超聲波檢測(cè)技術(shù)是利用頻率高于20KHz的聲波進(jìn)行檢測(cè)，壓力管道年檢機(jī)構(gòu)，如果工件中存在缺陷，那么缺陷和金屬材料中一定會(huì)形成一個(gè)不同介質(zhì)的交界面，交界面之間的聲阻抗不同，當(dāng)發(fā)射的超聲波遇到這個(gè)界面之后，就會(huì)發(fā)生反射，重慶壓力管道年檢，反射回來(lái)的能量又被探頭接受到，我們根據(jù)這個(gè)反射信號(hào)在屏幕中的位置對(duì)被檢工件進(jìn)行評(píng)定。

這種檢測(cè)技術(shù)被廣泛應(yīng)用到壓力容器和壓力管道的裂紋檢測(cè)。為提升其檢測(cè)效果，壓力管道年檢電話，在應(yīng)用該技術(shù)時(shí)要掌握以下要點(diǎn)：

(1) 超聲波檢測(cè)受表面耦合好壞限制較大，被檢工件表面需處理的平滑光潔，探頭表面不能有異物；

(2) 若缺陷在工件中存在的角度與探頭釋放超聲波的角度一致或相近，可能造成回波信號(hào)很弱甚至檢測(cè)不到回波信號(hào)，所以檢測(cè)高溫高壓高危介質(zhì)管線容器時(shí)盡量在檢測(cè)過(guò)程中選擇多角度探頭進(jìn)行檢測(cè)；

(3) 裂紋反射回波的波峰多尖銳，很多裂紋信號(hào)的端角還會(huì)產(chǎn)生分叉信號(hào)，雖然能從經(jīng)驗(yàn)上初步判斷缺陷性質(zhì)，但從原理上無(wú)法識(shí)別缺陷信號(hào)是否一定為裂紋信號(hào)，在確定缺陷性質(zhì)時(shí)，可采用其他無(wú)損檢測(cè)手段驗(yàn)證缺陷性質(zhì)，如X射線/γ射線檢測(cè)。