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商丘金常來金屬制品有限公司
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磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實現(xiàn)濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場方向垂直的磁場，處于正交電場區(qū)E和磁場B中的電子的運動方程，
感應加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場感應加熱，金屬鍍鈦加工服務，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術。
優(yōu)點蒸發(fā)速率大，項城鍍鈦加工服務，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導污染較少缺點蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價高、設備復雜
在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，處理鍍鈦加工服務，到達襯底凝結成膜的技術。
與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點）材料，具有附著力強、成分可控、易于規(guī)?；a(chǎn)等優(yōu)點。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
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