采用連續(xù)式硫化法的情況下,不會(huì)有因切去加壓成形產(chǎn)生的毛邊或一般的擠壓處理和在硫化處理槽內(nèi)進(jìn)行處理時(shí)橡膠管兩端翹起的部分而導(dǎo)致的橡膠浪費(fèi),另外能夠縮短制造時(shí)間和減少人工費(fèi)用,因此能夠降低輥筒的制造成本,從這些方面考慮,此方法優(yōu)于間歇式硫化法。
此外,硫化處理后,由于對(duì)每個(gè)輥筒都進(jìn)行了剪切,所以基本上不會(huì)出現(xiàn)上述差別,這樣就可緩解長(zhǎng)度方向的電阻值的不均勻。
區(qū)域提純后的金屬鍺,貴金屬靶材工藝,其錠底表面上的電阻率為30~50歐姆 厘米時(shí),貴金屬靶材加工,純度相當(dāng)于8~9,可以滿足電子器件的要求。但對(duì)于雜質(zhì)濃度小于[KG2]10原子/厘米[KG2]的探測(cè)器級(jí)超純鍺,貴金屬靶材價(jià)格,則尚須經(jīng)過(guò)特殊處理。
由于鍺中有少數(shù)雜質(zhì)如磷、鋁、硅、硼的分配系數(shù)接近于1或大于1,要加強(qiáng)化學(xué)提純方法除去這些雜質(zhì),然后再進(jìn)行區(qū)熔提純。電子級(jí)純的區(qū)熔鍺錠用霍爾效應(yīng)測(cè)量雜質(zhì)(載流子)濃度,一般可達(dá)10~10原子/厘米。經(jīng)切頭去尾,再利用多次拉晶和切割尾,一直達(dá)到所要求的純度(10原子/厘米),這樣純度的鍺(相當(dāng)于13)所作的探測(cè)器,其分辨率已接近于理論數(shù)值。
磁控濺射靶材種類(lèi):金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,吉林貴金屬靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,硫化物陶瓷濺射靶材,碲化物陶瓷濺射靶材,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),鉛靶材(PbAs),銦靶材(InAs)。
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