真空鍍膜的原理是基于物理氣相沉積(Physical Vapor Deition,簡稱PVD)技術,離子束濺射等將材料加熱至熔點或升華點以上,LED燈反光杯鍍膜加工,使其形成蒸汽流并沉積在基底表面,終形成薄膜。
真空鍍膜的主要優(yōu)點包括:附著力強:由于是在真空環(huán)境下沉積薄膜,因此薄膜與基底之間的附著力更強,不易脫落。
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