氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過(guò)程。
第三段c(曲線(xiàn)cd段):多孔層增厚。陽(yáng)極氧化約20s后,電壓進(jìn)入比較平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無(wú)孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí),新的無(wú)孔層又在生長(zhǎng),也就是說(shuō)氧化膜中無(wú)孔層的生成速度與溶解速度基本上達(dá)到了平衡,故無(wú)孔層的厚度不再增加,電壓變化也很小。但是,鋁氧化加工廠(chǎng),此時(shí)在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒(méi)有停止,鋁氧化生產(chǎn)廠(chǎng)家,他們?nèi)栽诓粩噙M(jìn)行著,結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。隨著氧化時(shí)間的延續(xù),孔穴加深形成孔隙,具有孔隙的膜層逐漸加厚。當(dāng)膜生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),即使再延長(zhǎng)氧化時(shí)間,氧化膜的厚度也不會(huì)再增加,此時(shí)應(yīng)停止陽(yáng)極氧化過(guò)程。陽(yáng)極氧化特性曲線(xiàn)與氧化膜生長(zhǎng)過(guò)程。
陽(yáng)極氧化工藝:
影響氧化膜質(zhì)量的因素有:
電解液溫度:電解液溫度對(duì)氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高,膜的溶解速度加大,膜厚降低。當(dāng)溫度為22~30℃時(shí),所得到的膜是柔軟的,鋁氧化加工,吸附能力好,但耐磨性相當(dāng)差;當(dāng)溫度大于30℃時(shí),膜就變得疏松且不均勻,有時(shí)甚至不連續(xù),且硬度低,因而失去使用價(jià)值;當(dāng)溫度在10~20℃之間時(shí),所生成的氧化膜多孔,吸附能力強(qiáng),并富有彈性,適宜染色,但膜的硬度低,耐磨性差;當(dāng)溫度低于10℃,氧化膜的厚度增大,硬度高,耐磨性好,但孔隙率較低。因此,生產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時(shí),必須降低操作溫度,在氧化過(guò)程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度,南通鋁氧化,通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化。
氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過(guò)程。一段a(曲線(xiàn)ab段):無(wú)孔層形成。通電剛開(kāi)始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi),鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜,厚度約0.01~0.1微米,為一層連續(xù)的、無(wú)孔的薄膜層,稱(chēng)為無(wú)孔層或阻擋層,此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過(guò)和膜層的繼續(xù)增厚。無(wú)孔層的厚度與形成電壓成正比,與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此,曲線(xiàn)ab段的電壓就表現(xiàn)出由零急劇增至*大值。
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