在鉑族金屬的應(yīng)用中，光學(xué)玻璃行業(yè)是鉑的重要的應(yīng)用領(lǐng)域，鉑是制造熔制光學(xué)玻璃的坩堝和攪拌器的必選材料，由于光學(xué)玻璃的特殊性，提出了對坩堝和攪拌器的更苛刻的適用要求，早在八十年代初期，國內(nèi)就有人提出了用彌散強(qiáng)化鉑來制作坩堝和攪拌器。

21世紀(jì)展現(xiàn)良好發(fā)展前景的納米技術(shù)，亳州1N金靶材，貴金屬由于它們的優(yōu)異的物理化學(xué)性能，資源的稀缺性以及在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大應(yīng)用和在未知領(lǐng)域的不斷開拓探索，成為納米技術(shù)早和相當(dāng)重要的研究對象之一。

背靶材料：

無氧銅(OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是無氧銅，因?yàn)闊o氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機(jī)械加工。 如果保養(yǎng)適當(dāng)，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。

鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進(jìn)行高溫帖合的條件下，哪里有1N金靶材，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲，1N金靶材報(bào)價(jià)， 所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，哪家有金1N金靶材，同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。

 濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝 ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點(diǎn)簡介如下：

 熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預(yù)先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機(jī)械性能好，但設(shè)備投入高，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品的缺氧率高。

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